インテルの最も正確で複雑な製造装置であるEUVについて学ぶ(工場見学)

Intelの2番目の「BehindthisDoor」ビデオでは、オレゴン州のファブD1Xを覗いて、人間が構築した最も複雑なマシンを確認してください。極紫外線(EUV)リソグラフィシステムは、根本的に短い波長を使用して、回路パターンをシリコンウェーハに投影します。 #EUVマシンはムーアの法則を前進させ、#チップメーカーはそれなしでは最先端のチップを製造できません。 (クレジット:Intel Corporation)
#Intel #Manufacturing #Semiconductor

▶IntelのEUVの詳細:https://intel.ly/3AeAKwz

 

【書き起こし】この扉の向こう側: インテルの最も精密で複雑なマシンである EUV について学ぶ 

(00:00) (魔法にかけられた音楽) 私がインテルで報告してきた 21 年間で、私は素晴らしい製品と、それらの製造に役立つマシンを見てきました。 でも、これからお見せする機械には圧倒されます。 私と一緒にこのドアの後ろに来て、見せてあげましょう。 (陽気な音楽) これが、EUV または極紫外線リソグラフィ システムです。
(00:24) これはおそらく人類がこれまでに作った中で最も複雑な機械です。 これはムーアの法則を前進させ、チップ メーカーはそれなしでは最先端のチップを生産できませんが、それについては後で詳しく説明します。 EUV マシンは、リソグラフィのリーダーである ASML、Intel、TSMC、Samsung などによる 35 年間の継続的な研究開発の結果、現実のものとなりました。
(00:45) オレゴン州の Fab D1X にこれらのツールを 1 つだけ配送するには、貨物機 747 機、貨物コンテナ 40 台、トラック 20 台が 3 台必要でした。 スクールバスサイズの機械は、100,000 個の部品で構成され、重量は 200 トン近くあります。 では、この EUV マシンは正確には何をするのでしょうか? インテルの共同創業者であるゴードン・ムーアは、プロセッサに詰め込まれるトランジスタの数が 2 年ごとに約 2 倍になることを観察しました。これは 50 年以上も続いており、ムーアの法則として知られています。
(01:16) チップ上のトランジスタやコンポーネントが多いほど、安価で強力になります。 チップ メーカーは、リソグラフィ マシンを使用して、回路パターンをシリコン ウェーハに投影します。 何十年もの間、彼らはリソグラフィー装置で光の波長を短くし続け、より小さなトランジスタの特徴を印刷してきました。
(01:35) ムーアの法則を追求するために、Intel のエンジニアは、High-k メタル ゲート技術、トライゲート 3D トランジスタ、歪みシリコンなどの発明を生み出しました。 Intel やその他のチップ メーカーは、今日の 193 ナノメートル波長の光を最大限に活用するために、ダブルおよびクワッド パターニングや水浸リソグラフィなどのプロセスも採用しています。
(01:56) しかし、トランジスタをさらに小さくするために、業界は根本的に短い波長を使用するリソグラフィ装置を必要としています。 この EUV マシンは、13.5 ナノメートルの光を生成します。 現在の機械と比較すると、その波長は 10 分の 1 以下です。 では、このマシンはどのように機能するのでしょうか? 頭の回転を上げて、簡単に説明しようと思います。
(02:18) まず、極紫外線は地球上に自然には存在しません。 したがって、それを生成する必要があります。 このツールは非常に大きいため、工場内に 3 フロアが必要です。 鋼の切断に使用されるレーザーの約 15 倍の出力を持つレーザーは、クリーン ルームの下のレベルに設置されています。 ビーム トランスポートは、レーザー パルスを床から EUV マシンに送信します。そこで発生器が金属スズの小さな液滴を発射します。各液滴は、人間の髪の毛の直径の約 1/3 にすぎません。
(02:48) 1 秒間に 50,000 回点滅する強力なレーザーが溶融スズに当たると、金属が気化してプラズマになります。 このプラズマは極紫外線領域の光を放出します。 コレクター ミラーが 13.5 ナノメートルの EUV 光を集めてスキャナーに送り、非常に精密なミラーからボールをピン留めして光をスリットに成形し、トランジスタのパターンを作成してシリコン ウェーハ上に相互接続します。
(03:16) なるほど、それほど単純ではありませんでした。 さらに注目すべき事実をいくつか。 インテルの新しい工場の天井は高さ 16 フィートです。 重いシステム コンポーネントを組み立てるにはオーバーヘッド クレーン システムが必要なため、これらの EUV ツールが置かれている高さは 25 フィートまで上げられます。 EUV マシンの光学系の精度はどのくらいですか? 計算は次のとおりです。宇宙飛行士が月面に立ち、レーザー ポインターを持って、地球にいる私の指先を狙っているのに似ています。
(03:45) ASML は、さらに微細な解像度のリソグラフィを提供する EUV ツールの改良版にすでに取り組んでいます。 インテルは現在、コンピューティングのオングストローム時代に備えるためにこれらの次世代マシンの 1 つを受け取った最初の顧客です。 これは気が遠くなるようなことではありませんか? このドアの後ろに来て、このエンジニアリングの驚異と人間の創意工夫への賛辞を楽しんでいただければ幸いです。
(04:08) ご覧いただきありがとうございます。ロブ・ケルトンです。 (明るい音楽) (明るい音楽)

注意:このビデオには、独自の安全と健康に関するポリシーを持つ外部ベンダーから提供された映像が含まれています。さらに、パンデミック関連のマスクや社会的距離の政策が必要でなかった、または実施されていなかったときに、COVIDの発生前にいくつかの映像が記録されました。

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