真空機器

真空機器は、一定の圧力以下の空気やガスを抜いて真空状態を作り出す装置です。これらの機器は、科学研究、製造業、半導体産業など幅広い分野で用いられています。真空機器の主な種類には、機械式真空ポンプ、液体リング真空ポンプ、ターボ分子ポンプ、イオンポンプ、クライオポンプなどがあります。

機械式真空ポンプは、ピストンやロータリーバーンなどの機械的な部品を使用して圧力を低下させるタイプのポンプです。一般的には、大気圧から中圧域までの真空を生成するのに適しています。

液体リング真空ポンプは、インペラーと液体リングを利用して圧力を低下させる方式です。濡れ式ポンプの一種であり、耐食性や耐熱性に優れているため、化学プロセスや蒸気回収に適しています。

ターボ分子ポンプは、高速回転するインペラーが気体分子を運動方向に加速させることで真空を生成する高真空ポンプです。高真空から超高真空領域まで対応し、半導体製造や表面分析などに用いられます。

イオンポンプは、電子と気体分子を衝突させてイオン化し、電極に引き寄せることで真空を作るポンプです。無振動で超高真空を実現可能であり、電子顕微鏡やマス分析装置などに利用されます。

クライオポンプは、極低温環境で気体分子を冷却・凝縮させ、取り込むことで真空を生成します。洗浄性や無油性に優れており、宇宙関連技術や光学素子の製造に適用されています。

これらの真空機器は、用途や必要な真空度に応じて選択され、組み合わせて使用されることもあります。

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