転写・露光（機構）

転写・露光（機構）とは、あるパターンを別の媒体に複製したり、光を用いて物質の性質を変化させたりする技術や装置です。この機構は主に半導体製造や印刷技術で利用されます。

半導体製造では、露光（機構）はフォトリソグラフィーと呼ばれるプロセスで使われます。光をマスクを通してシリコンウェハー上の感光性のフォトレジストに照射し、マスク上のパターンを転写します。その後、現像とエッチングにより不要なフォトレジストを除去し、所望のパターンが形成されます。

印刷技術では、転写（機構）はオフセット印刷やフレキソ印刷で利用されます。インクを所定のパターンに転写するために、版やシリンダーを使います。オフセット印刷では、版からゴムブランケットにパターンが転写され、さらに紙に転写されます。フレキソ印刷では、版をシリンダーに巻きつけ、紙に直接転写します。

これらの技術は、電子機器や印刷物の製造において、精密なパターンの再現や大量生産が求められる現代社会に欠かせない機能を提供しています。