真空蒸着

真空蒸着は、高真空（10-2Pa以下）で蒸発材料を加熱して蒸発させ、処理物に皮膜を堆積させます。

蒸発源の加熱方式には、抵抗加熱と電子ビーム加熱があり、装置規模や蒸発材料によって使い分けられます。抵抗加熱方式は、タングステンなど高融点金属製のボート状のヒータを使い、蒸発材料を直接加熱します。または、蒸発材料を入れたセラミック製るつぼをヒータで加熱します。真空蒸着はガラスやプラスチック製品への適用例が多く、アルミニウム蒸着したミラーやコンパクトディスク、レンズへの反射防止膜、フィルタなど光学部品への酸化物薄膜などの生成に利用されています。