第8回 微細加工プロセス技術セミナー（2021年8月25日）
【プラットフォーム技術紹介】
講師：豊田工業大学 佐々木実
アモルファスSiをLPCVD成膜した後にアニールすると、ランダムに並んでいたSiの結晶化が進むと共にHが抜けるため、大きな引張応力が得られます。この結晶化誘起応力は、最初の膜がアモルファスであるほど大きくなります。膜応力を利用して、軽くて堅牢な薄膜構造を製作した例を紹介します。
関連WEBサイト
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