「マスクレス・フォトリソグラフィ」

第2回 微細加工プロセス技術セミナー（2020年9月30日）
講師：物質・材料研究機構（NIMS）　渡辺 英一郎

近年、研究開発現場ではフォトマスクを使用しないパターン形成プロセスが普及しています。本セミナーでは、DMD(Digital Micromirror Device)を利用した露光技術を中心に、マスクレス・フォトリソグラフィの基礎に関して解説いたします。

▶関連動画
「レーザーリソグラフィによるグレースケール露光」https://youtu.be/U3sjTR8bu4E