フォトレジスト
リソグラフィー材料
リソグラフィーは、半導体製造や電子部品作成において、微細なパターンを基板に転写する技術です。リソグラフィー材料は、そのプロセスに必須な光学・化学特性を持つ材料で、フォトレジストとプロセス用薬品に大別されます。
フォトレジストは、紫外線(UV)やエクストリーム紫外線(EUV)などの光源によって感光性が変化する樹脂で、基板上に塗布されます。感光後、現像処理で不要な部分を除去し、緻密なパターンを形成します。フォトレジストは、ポジ型とネガ型の2種類があり、光照射部分の性質が反転する点で異なります。
プロセス用薬品は、現像液やエッチング液、リムーバー等が含まれます。現像液は感光後のフォトレジストに作用し、パターンを露出させる役割を果たします。エッチング液は露出した基板を腐食させ、微細な構造を彫刻します。リムーバーは、パターン形成後の不要なフォトレジストを除去します。
リソグラフィー材料は、高い解像度や感光速度、耐エッチング性などの性能が求められます。最先端半導体製造技術では、EUVリソグラフィーや多重露光法など、材料性能を向上させるための新たな手法が開発され続けています。