第2回 微細加工プロセス技術セミナー(2020年9月30日)
講師:物質・材料研究機構(NIMS) 渡辺 英一郎
近年、研究開発現場ではフォトマスクを使用しないパターン形成プロセスが普及しています。本セミナーでは、DMD(Digital Micromirror Device)を利用した露光技術を中心に、マスクレス・フォトリソグラフィの基礎に関して解説いたします。
▶関連動画
「レーザーリソグラフィによるグレースケール露光」https://youtu.be/U3sjTR8bu4E
第2回 微細加工プロセス技術セミナー(2020年9月30日)
講師:物質・材料研究機構(NIMS) 渡辺 英一郎
近年、研究開発現場ではフォトマスクを使用しないパターン形成プロセスが普及しています。本セミナーでは、DMD(Digital Micromirror Device)を利用した露光技術を中心に、マスクレス・フォトリソグラフィの基礎に関して解説いたします。
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「レーザーリソグラフィによるグレースケール露光」https://youtu.be/U3sjTR8bu4E
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